![](https://webcf.waybackmachine.org/web/20221225041009im_/https://habrastorage.org/webt/t3/pg/mq/t3pgmqfbnp5hg1tg-26fylb9fd8.jpeg)
Так выглядит EUV-оборудование от ASML
Совсем недавно мы опубликовали статью «У электронной промышленности Китая проблемы с архитектурой ARM и NAND-чипами. Какие у Поднебесной шансы». В ней мы рассказывали о том, что сейчас торговая война США и Китая усугубилась, вследствие чего развитие электронной промышленности в Поднебесной стало более сложной задачей.
Но, все же развитие продолжается. Причем это заметно даже по компании, которая сильнее всех пострадала от санкций США — Huawei. Представители компании недавно подали патентную заявку. В ней описывается современный литографический сканер со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Если китайцам удастся реализовать то, что описано в заявке, многие проблемы можно будет считать решенными. Об этом сегодня и поговорим.